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加快打造原始創(chuàng)新策源地,加快突破關(guān)鍵核心技術(shù),努力搶占科技制高點(diǎn),為把我國(guó)建設(shè)成為世界科技強(qiáng)國(guó)作出新的更大的貢獻(xiàn)。

——習(xí)近平總書記在致中國(guó)科學(xué)院建院70周年賀信中作出的“兩加快一努力”重要指示要求

面向世界科技前沿、面向經(jīng)濟(jì)主戰(zhàn)場(chǎng)、面向國(guó)家重大需求、面向人民生命健康,率先實(shí)現(xiàn)科學(xué)技術(shù)跨越發(fā)展,率先建成國(guó)家創(chuàng)新人才高地,率先建成國(guó)家高水平科技智庫(kù),率先建設(shè)國(guó)際一流科研機(jī)構(gòu)。

——中國(guó)科學(xué)院辦院方針

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【中國(guó)科學(xué)報(bào)】“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”通過驗(yàn)收

2017-07-10 中國(guó)科學(xué)報(bào) 沈春蕾
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語(yǔ)音播報(bào)

  近日,“極紫外(EUV)光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”項(xiàng)目驗(yàn)收會(huì)在中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所(以下簡(jiǎn)稱長(zhǎng)春光機(jī)所)召開,驗(yàn)收會(huì)由“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”國(guó)家科技重大專項(xiàng)(02專項(xiàng))實(shí)施管理辦公室組織。

  會(huì)上,評(píng)審專家組肯定了項(xiàng)目取得的一系列成果,一致同意項(xiàng)目通過驗(yàn)收,認(rèn)為該項(xiàng)目的順利實(shí)施將我國(guó)極紫外光刻技術(shù)研發(fā)向前推進(jìn)了重要一步。

  極紫外光刻是一種采用波長(zhǎng)13.5nm極紫外光為工作波長(zhǎng)的投影光刻技術(shù),是傳統(tǒng)光刻技術(shù)向更短波長(zhǎng)的合理延伸。作為下一代光刻技術(shù),極紫外光刻被行業(yè)賦予拯救摩爾定律的使命。

  長(zhǎng)春光機(jī)所應(yīng)用光學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室研究員金春水告訴《中國(guó)科學(xué)報(bào)》記者:“極紫外光刻光學(xué)技術(shù)代表了當(dāng)前應(yīng)用光學(xué)發(fā)展最高水平,作為前瞻性EUV光刻關(guān)鍵技術(shù)研究,項(xiàng)目指標(biāo)要求高,技術(shù)難度大、瓶頸多,創(chuàng)新性高,同時(shí)國(guó)外技術(shù)封鎖嚴(yán)重?!?/p>

  自上世紀(jì)90年代起,長(zhǎng)春光機(jī)所開始專注于EUV/X射線成像技術(shù)研究,著重開展了EUV光源、超光滑拋光技術(shù)、EUV多層膜及相關(guān)EUV成像技術(shù)研究,形成了極紫外光學(xué)的應(yīng)用技術(shù)基礎(chǔ)。

  2002年,長(zhǎng)春光機(jī)所研制國(guó)內(nèi)第一套EUV光刻原理裝置,實(shí)現(xiàn)了EUV光刻的原理性貫通。2008年國(guó)家“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”科技重大專項(xiàng)將EUV光刻技術(shù)列為“32-22nm裝備技術(shù)前瞻性研究”重要攻關(guān)任務(wù)。長(zhǎng)春光機(jī)所作為牽頭單位,承擔(dān)起了“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”項(xiàng)目研究工作,成員單位還包括中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所、中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所、中國(guó)科學(xué)院微電子研究所、北京理工大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、華中科技大學(xué)。

  金春水率領(lǐng)的長(zhǎng)春光機(jī)所項(xiàng)目研究團(tuán)隊(duì)秉承鍥而不舍的科研精神,潛心鉆研,厚積薄發(fā),歷經(jīng)八年的艱苦奮戰(zhàn),突破了制約我國(guó)極紫外光刻發(fā)展的超高精度非球面加工與檢測(cè)、極紫外多層膜、投影物鏡系統(tǒng)集成測(cè)試等核心單元技術(shù),成功研制了波像差優(yōu)于0.75 nm RMS 的兩鏡EUV 光刻物鏡系統(tǒng),構(gòu)建了EUV 光刻曝光裝置,在國(guó)內(nèi)首次獲得EUV 投影光刻32 nm 線寬的光刻膠曝光圖形。

  金春水說:“我們建立了較為完善的曝光光學(xué)系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)研發(fā)平臺(tái),圓滿完成國(guó)家重大專項(xiàng)部署的研究?jī)?nèi)容與任務(wù)目標(biāo),實(shí)現(xiàn)EUV 光學(xué)成像技術(shù)跨越,顯著提升了我國(guó)極紫外光刻核心光學(xué)技術(shù)水平。”

  同時(shí),項(xiàng)目的實(shí)施形成了一支穩(wěn)定的研究團(tuán)隊(duì),為我國(guó)能夠在下一代光刻技術(shù)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)可持續(xù)發(fā)展奠定堅(jiān)實(shí)的技術(shù)與人才基礎(chǔ)。

  驗(yàn)收會(huì)上,長(zhǎng)春光機(jī)所所長(zhǎng)賈平指出,從時(shí)機(jī)及技術(shù)難度方面考慮,EUV項(xiàng)目的布局正處于窗口期,希望國(guó)家給予持續(xù)穩(wěn)定的支持。他鼓勵(lì)項(xiàng)目參研單位進(jìn)一步發(fā)揮EUV學(xué)科優(yōu)勢(shì),鼓足勇氣并肩奮斗,在后續(xù)支持下取得更好的成果。

  02專項(xiàng)總體組技術(shù)總師、中科院微電子研究所所長(zhǎng)葉甜春也強(qiáng)調(diào),在國(guó)際上EUV光刻大生產(chǎn)基地已經(jīng)建立的形勢(shì)下,我國(guó)EUV光刻研究要繼續(xù)堅(jiān)持下去,面向未來產(chǎn)業(yè)工程化需求,著力點(diǎn)要放在必須掌握的核心技術(shù)和有可能取得創(chuàng)新的突破點(diǎn)。

  此外,葉甜春評(píng)價(jià)長(zhǎng)春光機(jī)所光刻機(jī)隊(duì)伍是承擔(dān)最核心、最高端、最艱苦任務(wù)的隊(duì)伍,也是專項(xiàng)團(tuán)隊(duì)中最有戰(zhàn)斗力、最能抗壓、最值得信任的主力部隊(duì)。他鼓勵(lì)項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)肩負(fù)重大任務(wù)的責(zé)任與使命感,繼續(xù)堅(jiān)持勇攀高峰。

  02專項(xiàng)光刻機(jī)工程指揮部總指揮、科技部原副部長(zhǎng)曹健林是國(guó)內(nèi)熟悉EUV光刻的領(lǐng)域?qū)<抑?。他認(rèn)為我國(guó)已初步具備光刻技術(shù)的研發(fā)能力,并向著產(chǎn)業(yè)化目標(biāo)前進(jìn),30年前的“中國(guó)光刻夢(mèng)”正在逐步變?yōu)楝F(xiàn)實(shí),通過我國(guó)光刻技術(shù)研發(fā)能力的建設(shè)初步樹立了堅(jiān)持“中國(guó)光刻夢(mèng)”的信心。

 ?。ㄔd于《中國(guó)科學(xué)報(bào)》 2017-07-10 第5版 創(chuàng)新周刊)
打印 責(zé)任編輯:侯茜

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