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　　10月13日下午，首屆國際先進光刻技術研討會勝利閉幕，本次會議為期兩天，由集成電路產業(yè)技術創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟主辦，中國科學院微電子研究所承辦，中芯國際(SMIC)、長江存儲(YMTC)、華虹集團等贊助。會議共有200余人參會，分別來自中國、美國、德國、日本等世界各地眾多名企、廠商、科研機構、高校等。
　　會議開始，大會主席、集成電路產業(yè)技術創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟理事長、科技部原副部長曹健林，國家外專局原局長馬俊如，科技部重大專項辦副巡視員、02專項實施管理辦公室副主任邱鋼先后為大會致開幕詞。
　　大會副主席、中科院微電子所所長葉甜春就當前行業(yè)趨勢作了分析報告。按照大會安排，在這兩天的時間里，來自Intel、IBM、Qualcomm(高通)、AMD、ASML、SMIC等公司的特邀嘉賓分別就擬定的主題作了特邀報告，深入分析了光刻領域先進節(jié)點最新的技術手段和解決方案，內容豐富，包含7nm及以下節(jié)點的計算光刻技術、SMO、DTCO、EUV、DSA、Design rules、光刻設備、材料等。