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加快打造原始創(chuàng)新策源地,加快突破關(guān)鍵核心技術(shù),努力搶占科技制高點,為把我國建設(shè)成為世界科技強國作出新的更大的貢獻。

——習(xí)近平總書記在致中國科學(xué)院建院70周年賀信中作出的“兩加快一努力”重要指示要求

面向世界科技前沿、面向經(jīng)濟主戰(zhàn)場、面向國家重大需求、面向人民生命健康,率先實現(xiàn)科學(xué)技術(shù)跨越發(fā)展,率先建成國家創(chuàng)新人才高地,率先建成國家高水平科技智庫,率先建設(shè)國際一流科研機構(gòu)。

——中國科學(xué)院辦院方針

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氮化鎵基無源太赫茲相控陣機制研究獲進展

2025-08-07 蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所
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隨著無線通信技術(shù)的發(fā)展,太赫茲波因超寬帶、高定向性和高分辨率等優(yōu)勢,成為6G通信的重要頻譜資源。然而,頻率升高帶來的路徑損耗加劇和信號源輸出功率降低等問題,使系統(tǒng)對高精度、低損耗、大視場的波束控制器件提出嚴(yán)苛要求。

近日,中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所秦華團隊提出并研制了基于氮化鎵肖特基二極管(GaN SBD)的無源太赫茲相控陣芯片原型,其工作頻率為0.32 THz,陣列規(guī)模為32×25。這一芯片利用GaN SBD的高速變?nèi)萏匦詫崿F(xiàn)陣列天線諧振模式的動態(tài)調(diào)控,支持模擬和數(shù)字調(diào)相兩種工作模式。在0至210°的連續(xù)相位調(diào)節(jié)范圍內(nèi),平均插入損耗為5 dB,調(diào)制速率超過200 MHz,平均相位調(diào)節(jié)誤差為1.8°。

進一步,針對現(xiàn)有GaN晶圓材料的非均勻性和SBD工藝偏差導(dǎo)致陣元間相位調(diào)節(jié)存在偏差的問題,該團隊提出了基于差分進化的控制策略,使主瓣增益提升了4.2 dB,并有效抑制了旁瓣水平。在±45°掃描范圍內(nèi),波束增益為18 dBi?;谠撔酒?,團隊演示驗證了目標(biāo)的跟蹤定位和信號的定向傳輸?shù)裙δ堋?/p>

相關(guān)研究成果發(fā)表在《先進材料》(Advanced Materials)上研究工作得到國家自然科學(xué)基金、國家重點研發(fā)計劃和中國科學(xué)院相關(guān)項目等的支持。

論文鏈接

基于GaN SBD的無源太赫茲相控陣芯片

打印 責(zé)任編輯:侯茜

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